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低應(yīng)力高致密薄膜沉積設(shè)備(ICPCVD)中標(biāo)結(jié)果公告(1)

   2024-11-06 0
核心提示:【中國國際招標(biāo)網(wǎng)】項目名稱:低應(yīng)力高致密薄膜沉積設(shè)

【中國國際招標(biāo)網(wǎng)】

項目名稱:低應(yīng)力高致密薄膜沉積設(shè)備(ICPCVD)

招標(biāo)項目編號:0664-2440SUMECK10/02

招標(biāo)范圍:低應(yīng)力高致密薄膜沉積設(shè)備(ICPCVD)

招標(biāo)機(jī)構(gòu):蘇美達(dá)國際技術(shù)貿(mào)易有限公司

招標(biāo)人:蘇州第三代半導(dǎo)體技術(shù)國創(chuàng)中心

開標(biāo)時間:2024-10-22 14:00

公示時間:2024-10-31 14:16 - 2024-11-04 23:59

中標(biāo)結(jié)果公告時間:2024-11-05 18:55

中標(biāo)人:Shintec Equipment Co., Limited

制造商:Oxford Instruments Nanotechnology Tools Limited, trading as Oxford Instruments Plasma Technology

制造商國家或地區(qū):英國

編輯:chinabidding.mofcom.gov
 
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